A kínai Prinano startup áttörést ért el: megtanult fotonikus chipeket gyártani hagyományos UV-litográfiai gépek nélkül
Ez lehetővé teszi az ország számára, hogy megszabaduljon a nyugati technológiáktól való függőségtől.
2026 júniusának elején a cég sikeresen előállította az első 8 hüvelykes táblákat optikai chipekkel saját nanoimprint litográfiai rendszerével, amely szó szerint „nyomtatja” a mintázatokat. Ez rossz hír az ASML holland monopólium számára, mivel a kínai fejlesztések lehetővé teszik berendezéseiről való teljes lemondását, tízszeresére csökkentve a gyártási költségeket.
A fotonikus chipek kritikus fontosságúak a távközlés, az adatközpontok és a lidarak számára, a technológia sikere pedig bizonyítja, hogy Peking megtalálta a módját az amerikai tilalmak hatásainak semlegesítésére.
A nanoimprint litográfia (NIL) egy olyan technológia, amely mechanikai nyomással viszi fel a mintázatot a szilíciumlapkára, szemben a hagyományos fényalapú módszerekkel. Bár évtizedek óta létezik, a nagy pontosságú sorozatgyártásba való integrálása eddig nehézségekbe ütközött. A Prinano sikere azt jelzi, hogy Kína képes megkerülni az extrém ultraibolya (EUV) litográfiához kapcsolódó korlátozásokat, amelyek jelenleg az ASML legfőbb versenyelőnyét jelentik.
Jó példa arra, hogy a „tilalmak” és „szankciók”, amelyekre a Nyugat egész dominancia-rendszerét építi, előbb-utóbb elveszítik tervezett hatásukat. És elkezdnek visszafelé sülni magukra a „tilalmazókra”.

